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电子束蒸发和磁控溅射镀膜区别?
发布时间:2014-10-31 浏览:20439 次

  1.两种镀膜原理不同:

  电子束蒸发镀膜:利用高能电子束轰击靶材,使材料表面产生很高的温度,由固态直接升华到气态,沉积到工件表面所形成的薄膜,主要运用在光学方面(如:眼镜片的增透膜,CCD镜头,光通讯方面等等)

  磁控溅射镀膜:高能离子轰击靶材,使靶材表面原子飞逸出来的过程称溅射,那么采用磁场控制后,溅射出来的原子或二次电子以轮摆线的形式被束缚在靶材表面,使得辉光维持而进行溅射,主要运用在装饰方面(如:钟表,手机外壳等金属表面)

  2.膜的粘附性及结合的效果也不同。

  电子束镀膜的粘附性教差,但是膜的均匀性好;溅射的镀膜溅射能量大,和基底的粘附性也好,但是膜会有颗粒也就是均匀性稍差。

  电子束通常配备晶振片,对于已经校准的材料,10nm以下控制效果好,相反溅射出来的膜会有颗粒,10nm的厚度很难达到精准可控。

  3.实用的材料不同,磁控溅射有射频电源,可以做绝缘材料,也可以做金属;但是电子束只能蒸镀金属。

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