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真空镀铝技术原理及发展历程
发布时间:2014-07-23 浏览:7178 次

  1、真空镀铝技术及软包装应用,在过去的几年里,镀铝膜在软包装的应用上有了大幅度的增长,其市场之所以得到迅速扩大,主要原因在于镀铝膜的技术因素及加工制造的经济因素、环保因素。

  2、高真空镀膜的基本原理,高真空镀膜是指在高真空状态下,通过高温将铝线熔化蒸发,铝蒸发沉淀吸附在柔性材料表面,使这些表面具有金属光泽,形成一层保护层,具有技术上的特性,从而能够适合软包装最终产品的特定用途。

  真空镀铝的原理:

  需要蒸镀的薄膜材料,放置在原料处,薄膜按照一定的方式穿过一系列的导辊,被连接在收料轴上放入密封的真空腔中,采取三级真空泵抽真空,当真空腔中的真空度达到10的-4Pa以上时,预先安装好的蒸发舟开始升温加热,达到1400℃以上后,铝线开始熔化蒸发,镀铝基材以400-600米/分的运行速度,通过布满来自蒸发舟上的铝蒸发的区域时。

  铝蒸发被吸附积在薄膜表面;经过镀铝的薄膜温度一般都很高,因此需要冷却,否则薄膜的形状和性质都会发生改变,给用户的使用带来意想不到的问题。

  因此我们采用能达到零下5℃-零下10℃的冷却系统来冷却,经过冷却的镀铝膜温度可控制在适当的范围内:我们采用红外线自动膜厚检测仪来检测镀铝膜镀铝膜外观等其他指标。

  3.镀铝膜的特点

  (1)外观:因为镀铝膜具有很高的金属光泽和良好的反射性,在软包装中使用镀铝膜能与油墨形成强烈的色彩反差。

  增加光线的反射,使包装产生非常夺目的光学效果,增加产品的美观程度。

  (2)阻隔性:薄膜经过真空镀铝后,能大大提高薄膜材料的阻隔性,对于一些需要延长保存期的产品,使用真空镀铝膜的软包装是一个不错的选择。

  (3)低成本及良好的加工性能

  与铝箔相比,VMPET有较大的价格优势。成本只有铝箔的一半。

  镀铝薄膜基材具有良好的物理机械性能。在复合加工中不容易出现揉曲、皱折、断裂等现象,有利于提高生产效率和合格品率;

  镀铝膜具有导电性,在加工过程中可以避免因为静电所造成的质量问题或故障,更于安全生产,特别是在包装粉状物品时,因为镀铝膜能够起到消除静电的作用,保证了封口性能的良好性。

  (4)符合环保要求

  真空镀铝产品消耗的主要能源是电力,在生产过程中不会产生废水、废气,残留物氧化铝可以回收再利用;另外镀铝时沉积在镀铝膜表面的铝非常少(一般只有350-400埃),因此可以认为没有改变其基材的本质;从环保的角度看,已镀过铝的薄膜作是一种“单一材料”,所以它们可以更容易地被分裂,以循环生产或焚烨处理。

  真空镀铝膜的发展趋势

  1.真空镀膜机的发展趋势:宽幅化、高速化、自动化,2.纸镀铝:因环保因素,纸镀铝的品种和产量将有较大的发展,3.图案镀铝。

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